IBM показа преимуществата на технологията High-K/Metal Gate
Изследователският алианс от крупни представители на полупроводниковият отрасъл, който се обедини в името на общото дело компаниите IBM, Chartered Semiconductor, Freescale, Infineon Technologies AG, Samsung Electronics, STMicroelectronics и Toshiba Corporation, съобщи за първите резултати от практич...
Прочети още →