Новини
 |
IBM показа преимуществата на технологията High-K/Metal Gate |
 |
|
Изследователският алианс от крупни представители на полупроводниковият отрасъл, който се обедини в името на общото дело компаниите IBM, Chartered Semiconductor, Freescale, Infineon Technologies AG, Samsung Electronics, STMicroelectronics и Toshiba C...
Дата на добавяне: 15 Апр 08 / Прегледи: 354 / Цялата новина
|
|
 |
|
IBM показа преимуществата на технологията High-K/Metal Gate |
|
|
Изследователският алианс от крупни представители на полупроводниковият отрасъл, който се обедини в името на общото дело компаниите IBM, Chartered Semiconductor, Freescale, Infineon Technologies AG, Samsung Electronics, STMicroelectronics и Toshiba C...
Дата на добавяне: 15 Апр 08 / Прегледи: 250 / Цялата новина
|
|
|
< 1 2
|
|
|
|
|
