Toshiba усвои новата технология за производство на NAND flash

Toshiba възнамерява да овладее технологията, която позволява значително намаляване на разходите за производство на NAND flash чипове памет, което е една от сферите на дейност на японския производител.

Според изданието Nikkei, Toshiba, заедно със своите съотечественици от Dai Nippon Printing и Canon, провежда научни изследвания в областта на така наречената нанопечатна литография (nanoimprint lithography, NIL). Чипмейкерът планира да отдели 860 милиарда йени (7,9 милиарда щатски долара) от средствата си, които в следващите три години трябва да вложи в разработването на полупроводников бизнес и да ги насочи към създаването на нови производствени линии за пускането на флаш-памет с приложение на NIL технологията.

Иновативното производство ще стартира през 2017 финансова година във фабриката на Toshiba в японския град Йокаити. Малко по-късно, с въвеждането на новия производствен комплекс, който трябва да влезе в експлоатация през 2018 финансова година е планирано да започне и масовото пускане на чипове по технологията NIL. По оценка на Toshiba, с нейна помощ, целия производствен процес на NAND flash чипове ще стане с около 10% по-евтин.

В момента, Toshiba е вторият по големина производител на флаш-памет, след лидера на пазара Samsung Electronics. Японският производител наскоро оцеля от големия счетоводен скандал, който разклати сериозно от към финансова гледна точка компанията, която проведе мащабно преструктуриране и концентрира вниманието си върху полупроводниковия отрасъл, както и върху производството на оборудване за атомни реактори.