 |
IBM показа преимуществата на технологията High-K/Metal Gate |
 |
|
Изследователският алианс от крупни представители на полупроводниковият отрасъл, който се обедини в името на общото дело компаниите IBM, Chartered Semiconductor, Freescale, Infineon Technologies AG, Samsung Electronics, STMicroelectronics и Toshiba Corporation, съобщи за първите резултати от практическите изпитания на новата технология HKMG (High-K/Metal Gate). Вижда се, че компанията AMD не е спомената, но главният директор на IBM по разработката на 32 nm. технологичен процес Mukesh Khare е заявил, че AMD е технологичен партньор на IBM и ще има достъп до новите разработки.
32 nm. чипове ще се изработват в най-голямата фабрика на IBM в град East Fishkill. Според предварителните сведения използването на новата технология HKMG за пускане на 32nm. чипове ще повиши производителността с 35% спрямо чиповете произвеждани по 45 nm. Освен това консумацията ще се намали с 30-50% спрямо тази при 45 nm. чипове. Новата технология ще може да се приложи и при 22 nm. производство.
|
|
 |
|
Статистика |
|
|
| Прегледи | 250 |
| Коментари | 0 |
| Рейтинг | |
| Добавена на | 15 Апр 2008 |
| Източник | Kaldata |
|
|
|
 |
|
Тагове |
|
|
east, fishkill, infineon, technologies, chartered, semiconductor, toshiba, corporation, khare, samsung, electronics, mukesh, freescale, stmicroelectronics |
|
|
|
|
|
|
|
