Миналата седмица се появиха слухове за намеренията на китайските производители да започнат производството на литографско оборудване с дълбоко ултравиолетово лъчение (DUV), което позволява създаването на доста напреднали чипове. Според оценките на експертите то все пак изостава с няколко поколения от най-добрите модели на холандската компания ASML, която е лидер на пазара.

В понеделник изданието The Information съобщи, че определен китайски производител, ползващ държавна подкрепа е започнал масово производство на такова оборудване. В началото производствените обеми ще бъдат ограничени: през текущата година ще бъдат произведени 5 броя литографски системи, а през следващата – около 20. Смята се, че купувачи на такова оборудване ще бъдат водещите китайски производители на чипове, включително SMIC, HuaHong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies. Подобно заместване на вноса може да разклати позициите на холандската ASML на китайския пазар, въпреки че китайското оборудване от DUV клас все пак отстъпва на западните модели както по производителност, така и по надеждност.

Във вторник агенция Ройтерс разкри името на споменатия китайски производител – Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Компанията е основана през август 2023 гoдина с капитал от около 1 млн. долара, като нейни съучредители са две структури, свързани с общинските власти на Шанхай.

През първите три търговски сесии миналата седмица акциите на холандската ASML загубиха над 13% от стойността си, а тези на Infineon Technologies поевтиняха с 15,5 %. Едва в четвъртък се наблюдаваше отскок след изявленията на анализаторите от JP Morgan, че реакцията на пазара на тези слухове е преувеличена. Китайските държавни медии не потвърдиха факта за започването на производството на DUV оборудване в страната, но намекнаха, че „западната блокада“ е загубила своята ефективност. Те изразиха увереност, че един ден съответните технологии, които западните производители са криели от китайската промишленост ще станат основна част от нейната ежедневна работа.

Смята се, че китайската система SSX800, върху която работят местни специалисти е приблизително съпоставима по характеристики с ASML Twinscan NXT:1950i, която холандският производител пусна на пазара през далечната 2008 година с цел производството на 28 nm чипове.

Сродната на SSA800 система на 70 % се снабдяваше с компоненти китайско производство. Важни елементи на тази система, като източници на лазерно излъчване, огледала, оптика и управляващ софтуер все пак трябва да се внасят. Според оценките на западни експерти китайското оборудване за производство на 28 nm чипове все пак изостава с четири поколения от чуждестранното и поради това има значително по-ниска производителност. Системата SSA800 е способна да обработва 150 силициеви пластини на час, но при това нивото на изходната годна продукция е далеч от целевите 90-95%. Във всеки случай, за масово внедряване в производството на чипове тези китайски системи все още са „недоразвити“ и са малко на брой.