Тайванските изследователи скоро ще получат съоръжение, което пренася схемата на микрочипа директно върху пластината без нуждата от скъпи фотомаски. Националният университет „Синхуа“ е поръчал от американската компания Multibeam нова електронно-лъчева система MBX, способна да ускори създаването на експериментални чипове и да доближи перспективните разработки до серийното производство.
Оборудването ще бъде инсталирано в новия център на Колежа за изследвания на полупроводници. Университетът планира да използва MBX не само в научни проекти, но и в съвместни програми с водещи тайвански производители на микросхеми. Доставката е планирана за 2027 година. Поръчката ще бъде първият договор на Multibeam в Тайван, който остава един от основните световни центрове на полупроводниковата промишленост.
Обичайната електронно-лъчева литография формира нанометров модел с помощта на тънък електронен лъч. Методът осигурява висока точност и не изисква фотомаски, но един лъч работи твърде бавно за много производствени задачи. Multibeam е разположила в MBX няколко миниатюрни електронни колони, които независимо една от друга нанасят различни участъци от модела едновременно.
Паралелната работа повишава производителността и позволява бърза промяна на конструкцията на бъдещото устройство. Изследователите могат да подготвят цифров макет и почти веднага да го пренесат върху пластината, без да се налага да поръчват нов комплект маски след всяка промяна. Според данните на производителя, MBX работи повече от 10 пъти по-бързо от традиционните еднолъчеви системи и създава отделни елементи с размер от 30 нанометра. Платформата поддържа силициеви пластини, стъкло и полупроводникови материали на базата на силициев карбид, галиев нитрид и индиев фосфид.
Университетът възнамерява да използва инсталацията преди всичко за усъвършенствано опаковане на чипове. MBX ще може да отпечатва плътни връзки между отделните кристали и да коригира схемата, като отчита тяхното реално положение върху подложката. Такъв подход е необходим за хетерогенна интеграция, при която процесори, памет, фотонни компоненти и специализирани ускорители се обединяват в един корпус. Платформата е предназначена и за изследвания в областта на силициевата фотоника, квантовите изчисления и сложните многокристални системи. За подобни области гъвкавостта често е по-важна от максималната миниатюризация, поради което електронно-лъчевото записване може да допълни оптичната и екстремната ултравиолетова литография, а не да ги замести.
Multibeam нарича MBX своята система от второ поколение. Компанията разчита да запълни нишата между лабораторните електронно-лъчеви инсталации и оборудването за масово серийно производство. Поръчката от Националния университет „Цинхуа“ ще бъде едно от първите изпитания, които ще покажат дали многолъчевата литография може да ускори не само експериментите, но и внедряването на нови методи за сглобяване на микросхеми.